ICC アニュアル 2024 とても近い遠さ
リアリティの「遠さ」と「近さ」とは
さまざまなリアリティの「遠さ」と「近さ」（とその変化）について、アーティストそれぞれが異なるアプローチから考える作品による展覧会。出品作家：青柳菜摘＋細井美裕、木藤遼太、ウィニー・スーン、たかくらかずき、ユーゴ・ドゥヴェルシェール、葉山嶺、古澤龍、米澤柊、リー・イーファン、おおしまたくろう、リー・ムユン無料展示エリアでは岩井俊雄作品、リサーチ・コンプレックス NTT R&D@ICCを鑑賞可。情報提供=イベントバンク
※掲載情報は2024年10月時点のものです。随時更新をしておりますが内容が変更となっている場合がありますので、事前にご確認のうえ、おでかけください。
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